设备核心参数解析
核心特点与优势总结
高温高精度:1200℃的最高温度配合±5℃的均匀性,使其能够胜任多种先进陶瓷、电子陶瓷的烧结和玻璃制品的高温处理。
专业炉膛材质:采用碳化硅炉胆,确保了设备在长期高温工作下的耐用性和稳定性。
研发导向:紧凑的工作室尺寸和强大的30段程序控温功能,明确指向实验室、科研院所及小批量试产场景。
应用领域高端:其技术参数完美匹配半导体、5G通信、新材料等领域对高温热处理设备的苛刻要求。
应用领域深度聚焦
与之前两款中低温炉不同,ZDXS5-5-1200 的核心应用集中在需要高温烧结和热处理的领域:
先进陶瓷烧结:
新材料研发:
玻璃工艺:
冶金与粉末冶金:
关键词分类提炼
以下是为 ZDXS5-5-1200 提炼的关键词,已优化分类,便于精准推广。
一、 核心产品与型号
ZDXS5-5-1200
1200℃箱式炉
高温箱式炉
实验室箱式炉
二、 关键技术参数
温度均匀度±5℃
1200℃
碳化硅炉胆
30段程序控温
5KW
300*200*120mm
三、 核心应用领域
陶瓷烧结炉
氧化锆烧结
氧化铝烧结
新材料研发
实验室高温炉
超导材料热处理
四、 具体工艺名称
五、 品牌与保证
市场定位与价值主张
箱式炉 ZDXS5-5-1200 是一款定位清晰的高端实验设备。它并非追求大规模生产,而是致力于为科研创新和高附加值材料的精密制造提供可靠的高温环境。
其核心卖点可总结为:“一款为实验室和研发中心设计的,具备±5℃极高热场均匀性的1200℃高性能烧结炉,是开发新一代陶瓷、电子及量子材料的理想平台。”